半導體

半導體。

相同的粒子數,更少的循環次數。奈米氣泡水可將污染物從製程零件、管路與槽體上剝離——在不使用超音波能量、也不更動既有藥液的前提下縮短周轉時間。

半導體優勢

相同成果。
更少循環。

零件、管路與槽體目前的清潔方式,是注水、攪動、反覆進行——不論是超音波槽或緩慢滾動,都得一循環接著一循環,直到粒子數不再下降為止。每一次循環都要耗掉一小時與一整槽的水。奈米氣泡水改變的是液體在表面上的作用方式:污染物更早脫離,並保持懸浮而不再沉降回表面,因此粒子數能在更少的循環中達標。

  • 以更少的循環次數達到相同粒子數
  • 縮短單件周轉時間,製程無須更動
  • 無需超音波能量,也無須更動既有藥液
  • 帶電氣泡使微粒保持懸浮——不再沉積
奈米氣泡的運作原理  →
數據說話

基本物理特性。

<150

氣泡直徑,適用於次微米微粒剝離

24

奈米氣泡在清洗槽中的穩定性

−45

表面電荷使微粒不再附著於表面

清潔迴路

導入位置。

槽體照既有作法注入部分水量並緩慢滾動,改變的只有水本身:當內壁依序通過水中,附著的污染物隨即脫離、保持懸浮而不再沉降回表面,並隨排水離開——因此粒子數能在更少的循環中下降。

機能水流入 污染物排出
清洗水中的奈米氣泡 製程零件與管路 已剝離的污染物

製程零件與腔體部件

石英件、噴嘴、電極與載具就在原本的槽中完成清潔——縮短拆解與重組之間的周轉時間。

管路、管線與槽體

供應管線、循環迴路與儲槽可由原本即在其中流動的流體就地清潔——無需拆解,也不會殘留需要中和的物質。

槽體、桶槽與載具

大型內襯與電解拋光槽體,仍照現行方式注水、滾動、排放。改變的只是每一趟水做的事更多,因此達到粒子數標準所需的趟數更少。

管線中即時加注,無需新設備

氣泡於使用端直接注入水中,並可穩定維持一整個班次——因此作業流體仍然是水,透過既有管線輸送即可。

為何奏效

三大優勢。

更少循環

污染物在表面接觸到水的當下即行脫離,不必等待整段浸泡時間——粒子數因此能以更少的趟數達標,每件零件待在槽中的時間也更短。

更省力

無超音波換能器需要維護,無需人工刷洗,槽體的操作方式也完全不變。清潔就在您原本已在進行的注水過程中完成。

無需重新驗證

零件在送進晶圓廠之前就已完成清潔,因此不需要通過廠內的機台驗證。作業流體仍是同樣的水,只是溶入了氣體;而強負表面電荷正是讓已剝離的微粒不再沉降回表面的關鍵。

立即開始

同樣的潔淨,更少的循環。

無論您是要縮短零件清潔的周轉時間,或是想讓既有的清洗槽發揮更大效益——Nable 的奈米氣泡平台都能與廠內現有設備搭配運作。