เซมิคอนดักเตอร์
จำนวนอนุภาคเท่าเดิม ในรอบที่น้อยลง น้ำนาโนบับเบิลขจัดสิ่งปนเปื้อนออกจากชิ้นส่วนกระบวนการ ระบบท่อ และถัง — ลดเวลาการหมุนเวียนโดยไม่ใช้พลังงานอัลตราโซนิกและไม่เปลี่ยนสารเคมีที่ใช้อยู่
ผลลัพธ์เดิม
รอบน้อยลง
ปัจจุบันชิ้นส่วน ระบบท่อ และถัง ถูกทำความสะอาดด้วยการเติมน้ำ กวน แล้วทำซ้ำ — ไม่ว่าจะเป็นอ่างอัลตราโซนิกหรือการหมุนช้า ๆ ก็ต้องทำรอบแล้วรอบเล่าจนกว่าจำนวนอนุภาคจะหยุดลดลง แต่ละรอบใช้เวลาหนึ่งชั่วโมงและน้ำเต็มถัง น้ำนาโนบับเบิลเปลี่ยนสิ่งที่ของเหลวทำกับพื้นผิว สิ่งปนเปื้อนหลุดออกเร็วขึ้นและแขวนลอยอยู่แทนที่จะตกกลับลงไป จำนวนอนุภาคจึงลดถึงเกณฑ์ได้ในรอบที่น้อยลง
- ได้จำนวนอนุภาคเท่าเดิมในรอบที่น้อยลง
- ลดเวลาการหมุนเวียนต่อชิ้น โดยไม่ต้องเปลี่ยนกระบวนการ
- ไม่ใช้พลังงานอัลตราโซนิก และไม่เปลี่ยนสารเคมีที่ใช้อยู่
- บับเบิลที่มีประจุช่วยให้อนุภาคแขวนลอย — ไม่ตกตะกอนซ้ำ
คุณสมบัติพื้นฐาน
เส้นผ่านศูนย์กลางบับเบิลสำหรับขจัดอนุภาคระดับต่ำกว่าไมครอน
ความเสถียรของนาโนบับเบิลในอ่างล้าง
ประจุพื้นผิวที่ป้องกันอนุภาคเกาะกลับพื้นผิว
จุดที่นำไปใช้
ถังถูกเติมน้ำบางส่วนและหมุนช้า ๆ เหมือนที่ทำอยู่เดิม สิ่งที่เปลี่ยนคือน้ำเท่านั้น เมื่อผนังด้านในแต่ละส่วนเคลื่อนผ่านน้ำ สิ่งปนเปื้อนจะหลุดออก แขวนลอยอยู่แทนที่จะตกกลับลงไป แล้วไหลออกไปพร้อมน้ำทิ้ง จำนวนอนุภาคจึงลดลงได้ในรอบที่น้อยกว่า
ชิ้นส่วนกระบวนการและชิ้นส่วนแชมเบอร์
ชิ้นส่วนควอตซ์ หัวฉีด อิเล็กโทรด และแคร์ริเออร์ สะอาดได้ในอ่างเดิมที่ใช้อยู่ — ลดเวลาการหมุนเวียนระหว่างการถอดและประกอบใหม่
ระบบท่อ สายจ่าย และถัง
สายจ่าย ลูปหมุนเวียน และถังเก็บ ถูกทำความสะอาดในที่ด้วยของเหลวที่ไหลผ่านอยู่แล้ว — ไม่ต้องถอดประกอบ และไม่มีสิ่งตกค้างที่ต้องทำให้เป็นกลาง
ถัง ภาชนะ และแคร์ริเออร์
ถังขนาดใหญ่ทั้งแบบบุผิวและขัดผิวด้วยไฟฟ้ายังคงเติมน้ำ หมุน และระบายเหมือนเดิม เพียงแต่น้ำทำงานได้มากขึ้นในแต่ละรอบ จึงใช้รอบน้อยลงกว่าจะถึงเกณฑ์
เติมแบบอินไลน์ ไม่ต้องมีเครื่องใหม่
บับเบิลถูกเติมลงในน้ำ ณ จุดใช้งาน และคงความเสถียรตลอดทั้งกะ — ของเหลวที่ใช้ทำงานจึงยังเป็นน้ำ ซึ่งส่งผ่านระบบท่อเดิมได้เลย
สามข้อได้เปรียบ
รอบน้อยลง
สิ่งปนเปื้อนหลุดออกทันทีที่พื้นผิวสัมผัสน้ำ แทนที่จะต้องรอเวลาแช่จนครบ — จำนวนอนุภาคจึงถึงเกณฑ์ในรอบที่น้อยลง และชิ้นส่วนแต่ละชิ้นอยู่ในอ่างสั้นลง
ใช้แรงงานน้อยลง
ไม่มีตัวกำเนิดอัลตราโซนิกให้ต้องบำรุงรักษา ไม่ต้องขัดด้วยมือ ไม่ต้องเปลี่ยนวิธีเดินอ่าง การทำความสะอาดเกิดขึ้นภายในการเติมน้ำที่คุณทำอยู่แล้ว
ไม่ต้องรับรองใหม่
ชิ้นส่วนถูกทำความสะอาดก่อนเข้าโรงงานผลิตชิป จึงไม่ต้องผ่านการรับรองเครื่องมือภายในโรงงาน ของเหลวที่ใช้ยังเป็นน้ำเดิมที่ละลายก๊าซไว้ และประจุพื้นผิวลบที่แรงคือสิ่งที่ทำให้อนุภาคที่หลุดออกแล้วไม่ตกกลับลงไป
ความสะอาดระดับเดิม ในรอบที่น้อยลง
ไม่ว่าคุณกำลังลดเวลาการหมุนเวียนในการทำความสะอาดชิ้นส่วน หรือต้องการได้ผลมากขึ้นจากอ่างที่ใช้อยู่ — แพลตฟอร์มนาโนบับเบิลของ Nable ทำงานร่วมกับอุปกรณ์ที่มีอยู่แล้วในโรงงานของคุณ